مزایای دستگاه های برش لیزر پیکوثانیه

ابعاد مقایسه:

لیزر فیبر نانوثانیه معمولی

لیزر فیبر نانوثانیه QCW

لیزر پیکوثانیه

عرض پالس:

(10⁻⁹ s)

(10⁻⁹ s)

(10-12 s، 1000 برابر کوتاهتر از نانوثانیه)

مکانیسم اصلی

اثر فتوترمال؛ مواد با انتشار حرارت قابل توجه و HAZ شفاف ذوب/تبخیر می شوند.

اثر فتوترمال کنترل شده؛ پالس های QCW انباشت گرما را از طریق خنک سازی بازه ای کاهش می دهند.

"فرآوری سرد"؛ پالس‌های فوق-کوتاه پیوندهای مولکولی را قبل از انتشار گرما با حداقل HAZ می‌شکنند.

کیفیت پردازش

عمومی؛ سوراخ‌ها، لایه بازفرستاده‌شده و HAZ قابل مشاهده هستند، که اغلب به پردازش پست- نیاز دارند.

بهبود یافته؛ HAZ کوچکتر، کنترل بهتر بریدگی و ریز{0}}ترک ها.

عالی؛ لبه‌های تمیز و صاف، بدون بریدگی، بدون لایه‌ای دوباره ریخته‌شده و نزدیک به{0}}صفر HAZ.

کارایی پردازش

بالا؛ حذف سریع مواد، ایده آل برای تولید انبوه.

متوسط-بالا؛ قابلیت حذف قوی، سرعت متوسط ​​کمی کمتر به دلیل فواصل پالس.

کم – متوسط؛ حذف کوچکتر در هر پالس، سرعت کلی کندتر، به ویژه برای مواد ضخیم.

سازگاری مواد

متوسط؛ مناسب برای فلزات معمولی، عملکرد محدود در مواد بازتابنده یا شکننده.

گسترده؛ فلزات بازتابنده و مواد شکننده را با دقت بهتری کنترل می کند.

بسیار گسترده؛ تقریباً برای همه مواد، به ویژه بسترهای شفاف، شکننده و حساس به حرارت{0}}مناسب است.

کیفیت پرتو (M²)

عالی (معمولا<1.5)

عالی (معمولا<1.5)

عالی (معمولا<1.3)

برنامه های کاربردی معمولی

علامت گذاری فلز/پلاستیک، حکاکی، برش فلز نازک، جوش استاندارد

یاقوت کبود، سرامیک، برش ویفر؛ جوشکاری/برش دقیق فلز؛ مواد بازتابنده

دستگاه های پزشکی، حفاری فوق-دقیق، پردازش سلول سوختی هیدروژنی

هزینه تجهیزات

کم

متوسط ​​(معمولاً 30 تا 50 درصد بالاتر از نانوثانیه)

بالا (معمولاً 3-5× QCW یا بیشتر)

هزینه تعمیر و نگهداری

کم (ساختار فیبر، نگهداری کم)

کم (ساختار فیبر، نگهداری کم)

بالاتر (الزامات محیطی سخت گیرانه تر، اجزای کلیدی دارای محدودیت عمر مفید هستند)